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光刻胶又名“光致抗蚀剂”，光刻胶具有光化学敏感性，通过利用光化学反应，并经曝光、显影、刻蚀等光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是一种图形转移介质。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】光刻胶被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键材料，可应用于PCB、LCD与集成电路等下游领域。http://www.hibor.com.cn（慧博投研资讯）光刻胶是泛半导体行业的核心材料。
围绕光刻胶行业，下面我们从其应用领域及分类展开探讨，对于光刻胶的重要性及产业链中上游进行细致梳理、对半导体制程提升背景下的市场空间及未来发展前景进行预测，并对其难以突破的技术、认证壁垒进行论述；对国外龙头企业进行复盘，希冀从中找到国产替代的可行路径、给国内相关企业的发展带来启示，希望通过阅读本文对大家了解光刻胶行业带来帮助。
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