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光刻是半导体生产中最重要的工艺步骤:光刻是半导体器件制造的最核心步骤,直接决定集成电路的性能和良率。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】光刻机的核心工艺指标包括:分辨率、聚焦深度、套刻精度、曝光功率及单位时间产能等。http://www.hibor.com.cn(慧博投研资讯)主流的光刻机均采用浸没系统、可编程光照、畸变修正、热效应修正、对准与表面测量等高难度技术。光刻设备均具有高技术附加值,毛利率超过50%。
成熟工艺领域为主,国内光刻设备市场广阔:中国大陆以成熟制程为主的半导体产线不断扩产,产生了大量光刻设备的需求。2021年ASML有高达27.4亿欧元的营收来自中国大陆(其全球第三大市场);全球光刻设备市场规模超180亿美元,显影涂胶设备市场超30亿美元。国产光刻曝光设备尚处于实验阶段;显影涂胶设备已覆盖浸没式ArFi工艺节点,突破动能强劲。
光刻机上游零部件市场有待发掘:光刻机的运行需光源、照明、掩膜台、物镜、工件台等多个精密系统组合工作,全球光刻零件市场至少约70亿美元(按50%毛利率推算)。相比其他半导体零件,光刻机零件单个价值量高,技术难度大。贸易限制导致海外供应链风险剧增,国内光学企业成为不二之选,技术能力与对应产品的盈利能力有望加速成长。
投资建议:在光刻配套设备与零件方面,建议关注苏大维格(300311.SZ)、茂莱光学(688502.SH)、芯源微(688037.SH)、精测电子(300567.SZ)、盛美上海(688082.SH)、美埃科技(688376.SH)、炬光科技(688167.SH)、福晶科技(002222.SZ)等。
风险提示:半导体行业景气度下滑,光刻设备需求不及预期;贸易保护主义因素导致国内晶圆厂扩产放缓;光刻设备与组件技术难度大,相关研发进度可能慢于预期。
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