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随着半导体产业的持续迭代，其加工工艺也面临着诸多挑战。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】在芯片生产过程中，最大的挑战之一就是光刻工艺，它决定了芯片晶体管尺寸的大小，进而直接影响到芯片的性能和功耗。http://www.hibor.com.cn（慧博投研资讯）光刻机作为光刻技术的核心设备，其性能直接决定了晶圆生产线的制程节点和产能上限。然而光刻技术壁垒极高，光刻机供应几乎被海外企业垄断，国产替代迫在眉睫，国内企业需长期不断积累才能构建企业长期核心竞争力。当前，光刻机国产化曙光已现，整机与零组件企业已经逐步形成一定规模，65nm节点光刻机有望突破。在自主可控势在必行的长期形势下，国产企业有望迎来较大市场机遇。
本文将深入探讨光刻机行业。我们以光刻工艺为起点，详细解析光刻机的作用、工作原理以及分类等基础知识，并阐述影响光刻机性能的关键指标。此外，我们还将介绍光刻机的核心部件和关键系统。随后，文章将全面分析当前市场状况，探讨推动我国光刻机需求增长的因素，并详解国产光刻机的发展进程。最后，我们会列出可能从行业发展中获得益处的相关企业，期望这些内容能够帮助大家更好地理解光刻机行业。
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