光大证券-芯源微-688037-跟踪报告之五：公司发布化学清洗机新产品，浸没式Track设备导入及应用进展良好-240420

　　公司发布化学清洗机新产品，打造新的增长点。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】2024年3月19日芯源微发布KCE前道单片式化学清洗机，该款机台由公司上海临港子公司自主研发，具有高工艺覆盖性、高稳定性、高洁净度、高产能、高智能化等多重优势，适用于薄膜前后的清洗、干法蚀刻后清洗、离子注入灰化后清洗、CMP后清洗等多种清洗工艺，能够满足客户对于UPTime、刻蚀一致性等稳定性指标的严苛要求。http://www.hibor.com.cn（慧博投研资讯）同时，机台还充分借鉴了公司在前道Track及Scrubber等领域的成熟技术，通过不断优化内部单元及整机设计，可有效确保机台内部微环境均匀稳定，并最大程度压缩chamber空间，推出的高产能架构能够助力客户实现清洗效率的显著提升。此外，机台还配备多项智能化功能，实现AI赋能。本次推出的前道单片式化学清洗机新品，将有效弥补公司在前道单片式化学清洗领域的空白，实现“物理+化学”清洗双覆盖，为公司打造新的业绩增长点。

　　前道Track设备技术不断进步，下游客户导入进展良好。2023年公司在浸没式高产能涂胶显影机平台架构及内部腔体单元上进行了进一步的优化和完善，全新的热盘快速降温技术在热盘单元烘烤温度切换过程中实现了降温时间的大幅缩短，提升了热盘处理效率，整机产能得到了提升；旋涂省胶技术应用了基于大量客户端量产数据模型下生成的核心函数控制系统，实现了涂胶工艺中的光刻胶旋涂精准控制，可为客户大量节约光刻胶成本。

　　在2023年前道晶圆厂扩产节奏有所放缓的情况下，公司前道Track（涂胶显影机）新签订单依然保持了较好的增长，实现了国内市占率的稳步提升，目前公司offline、I-line、KrF产品商业竞争力已逐步凸显，工艺处理能力、稳定性等与进口机台的差距不断缩小，浸没式高产能Track下游客户端导入评估和应用进展良好。

　　展望2024年，下游前道晶圆厂复苏迹象已愈发明显，同时叠加公司前道Track在国内晶圆厂份额的持续提升，以及化学清洗机、临时键合机等新产品的不断推出和放量，公司对2024年签单持较为积极的态度。

　　盈利预测、估值与评级：考虑到后道封装环节复苏较弱，我们下修公司2023-2025年归母净利润为2.51、3.58和4.91亿元（下修11.31%、10.50%和11.21%），当前市值对应2024-2025年PE分别为38/27倍。我们看好国产半导体设备需求，维持公司“买入”评级。

　　风险提示：行业景气恢复不及预期；行业竞争加剧。