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光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】全球光刻机市场规模超230亿美元，ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。http://www.hibor.com.cn（慧博投研资讯）目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟，但是国内光刻机仍明显落后ASML。同时，美国对中国先进制程设备和技术围追堵截，光刻机处于核心“卡脖子”状态。光刻机产业国产替代趋势下，高端光刻机的发展有望获得推动，国内产业链相关企业有望受益。
跟随光刻机产业国产替代视角，我们对相关问题展开分析探讨。当前光刻机行业市场概况如何？有哪些主要技术指标？在技术路线上，未来突破路径在哪里？当下市场呈现怎样的局面？哪些企业占据中高端市场？国内企业与海外巨头的差距在哪里？以及在这种情况下，对于备受市场瞩目的行业国产替代情况，当前进程怎么样？国内产业链有哪些进展？不同环节国产化情况如何？国产替代趋势下，相关企业发展情况如何？未来行业有何发展趋势？市场空间有多大？以上一系列问题，都将是我们今天探讨的重点，以下我们就以光刻机行业国产替代为核心点，对相关问题展开分析。希望对相关人士了解光刻机行业有所启发。
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